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イオンスパッタ装置
メーカー・型番
日立ハイテク E-1045
設置場所
NICHe本館302号室
設置年度
平成25年度
主な仕様
ダイオード放電マグネトロン形
圧力調整範囲: 20~7Pa
処理時間範囲: 5~300秒
使用ターゲット: Pt、Pt-Pd、Au、Au-Pd (Pt、Auは常備)
カーボン蒸着ユニット付属
蒸着源: シャープペンシルの替芯を使用
蒸着膜厚さ: 約12nm (蒸着源からの距離が80mmの場合)
試料
バルク、粉体、エポキシ樹脂包埋試料等
(粉体試料の固定については要相談)
最大試料サイズ: 直径60mm x 高さ20mm
用途
非導電性試料への導電コーティング処理
FIB加工や、イオンミリング加工試料の表面保護膜の作製
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