X線光電子分光分析装置(XPS)

メーカー・型式

アルバック・ファイ Quantum 2000

設置場所

未来産業技術共同研究館304号室

設置年度

平成13年度(平成25年度に制御PC更新)

主な仕様

  • 走査型X線源
    X線源： Al-Kα、ビーム径： 10～200μm
  • 帯電中和用低エネルギー電子銃
  • Arイオン銃搭載 (帯電中和、スパッタリング用)
  • 自動帯電中和測定
  • 5軸電動試料ステージ

  • 走査X線励起二次電子によるイメージング
  • 試料導入から分析まで、多試料自動分析機能
  • 分析チャンバー真空度： <10 -8 Pa
  • 測定ソフトウェア： Smart-Soft XPS
  • 解析ソフトウェア： MultiPak Ver.9.5
  • アクティブ磁場キャンセラー付属
  • SPS (Sample Positioning Station)付属

分析試料

  • 試験片形状： 最大径100mm、最大厚さ5mm程度
  • 試験片はネジ、またはマスクにて固定できること
    (原則として導電性テープは使用しない)
  • エポキシ樹脂包埋サンプルの測定は困難 (真空度悪化のため)
  • 各種金属材料、セラミックス、有機材料など（超高真空中で揮発しないもの）
  • 非導電性試料は、自動帯電中和により測定可能
  • 粉体試料は要相談

用途

  • H、He以外の元素についての定性分析、および相対感度係数による定量分析
  • スポット、ライン、マッピング分析による元素分布評価
  • Arイオンスパッタリングによる深さ方向分析
  • 化学シフトによる化学状態の推定

これまでの利用例

  • 高温高圧水中にて形成された酸化皮膜の組成・構造評価、及び膜厚評価
  • 電子部品接点に付着した異物の分析
  • 熱処理部品の表面酸化皮膜の構造、及び膜厚の評価