イオンスパッタ装置

メーカー・型番

日立ハイテク E-1045

設置場所

NICHe本館302号室

設置年度

平成25年度

主な仕様

  • ダイオード放電マグネトロン形
  • 圧力調整範囲: 20~7Pa
  • 処理時間範囲: 5~300秒
  • 使用ターゲット: Pt、Pt-Pd、Au、Au-Pd (Pt、Auは常備)
  • カーボン蒸着ユニット付属
    • 蒸着源: シャープペンシルの替芯を使用
    • 蒸着膜厚さ: 約12nm (蒸着源からの距離が80mmの場合)

試料

  • バルク、粉体、エポキシ樹脂包埋試料等
    (粉体試料の固定については要相談)
  • 最大試料サイズ: 直径60mm x 高さ20mm

用途

  • 非導電性試料への導電コーティング処理
  • FIB加工や、イオンミリング加工試料の表面保護膜の作製